• Fri frakt över 249 kr
  • •
  • Snabba leveranser
  • •
  • Billiga böcker
Kundservice

Du är på sajten för privatpersoner.

Företag, bibliotek eller offentlig verksamhet?

Du handlar på classic.bokus.com, där alla dina funktioner finns intakta.
Till classic.bokus.com
Bokus logotyp. Gå till startsidan.
  • Erbjudanden
  • Student
  • Topplistor
  • Barn & ungdom
  • Bokus Play
  • E-böcker
  • Ljudböcker
  • Pocketböcker
  • Spel & pussel

10% rabatt på allt med kod NYSTART10 →

Sidfot

Mina sidor

    Hjälp

    • Kundservice
    • Vanliga frågor och svar
    • Frakt och leverans
    • Retur vid ångerrätt
    • Reklamera vara
    • Betalning
    • Köpvillkor
    • Allmänna villkor
    • Information om webbplatsens tillgänglighet

    Om Bokus

    • Om oss
    • Pressrum
    • För studenter
    • För företag
    • För bibliotek och offentlig verksamhet
    • För leverantörer
    • Hållbarhet

    Populärt

    • Aktuella erbjudanden
    • Presentkort
    • Studentlitteratur
    • Nya böcker
    • Topplistor
    • Signerade böcker
    • Engelska böcker

    Inspiration

    • Boktips
    • BookTok
    • Populära bokserier
    • Barnbokskaraktärer
    • Populära författare
    Logotyp för Bokus
    Följ oss på Facebook (extern länk)Följ oss på Instagram (extern länk)Följ oss på YouTube (extern länk)Följ oss på TikTok (extern länk)
    bokus @ CookiesAnpassa cookiesIntegritetspolicyKöpvillkor
    Till Citymail hemsida (extern länk)Till Budbee hemsida (extern länk)Till Postnord hemsida (extern länk)Till Schenker hemsida (extern länk)Till Early Bird hemsida (extern länk)Till Walleys hemsida (extern länk)
    1. Naturvetenskap och teknik
    2. Matematik och naturvetenskap
    3. Fysik

    Process Technology for Semiconductor Lasers

    Crystal Growth and Microprocesses

    AvKenichi Iga,Susumu Kinoshita

    Häftad, Engelska, 2011

    Del 30 i serien Springer Series in Materials Science

    546 kr

    Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

    Beskrivning

    Process Technology for Semiconductor Lasers describes the design principles of semiconductor lasers, mainly from the fabrication point of view. A review is given of the history of semiconductor-laser development and applications and of the materials used in lasing at short to long wavelengths. The basic design principles for semiconductor-laser devices and the epitaxy for laser production are discussed. An entire chapter is devoted to the technology of liquid-phase epitaxy, and another one to vapor-phase and beam epitaxies. The characterizations of laser materials and the fabrication and characteristics of semiconductor lasers are treated. Mode-control techniques are presented, and surface-emitting lasers are introduced in the final chapter.

    Produktinformation

    • Utgivningsdatum:2011-12-21
    • Mått:155 x 235 x 11 mm
    • Vikt:295 g
    • Format:Häftad
    • Språk:Engelska
    • Serie:Springer Series in Materials Science
    • Antal sidor:169
    • Förlag:Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
    • ISBN:9783642795787

    Utforska kategorier

    • Fysik inom Naturvetenskap och teknik
    • Kvantfysik inom Naturvetenskap och teknik
    • Maskinteknik och material inom Naturvetenskap och teknik

    Innehållsförteckning

    • 1. Introduction.- 1.1 Outline of Semiconductor Laser Theory.- 1.2 Semiconductor Lasers in Opto-electronics.- 1.3 Necessary Technology for Semiconductor Lasers.- 1.4 Brief History of Semiconductor Lasers.- 1.5 Typical Semiconductor Lasers.- 2. Materials for Semiconductor Lasers.- 2.1 III-V Compound Semiconductors.- 2.2 Crystals for Visible to Near-Infrared-Wavelength Emission Semiconductor Lasers.- 2.3 Crystals for Semiconductor Lasers with 1-µm and Longer Emission Wavelengths.- 3. Basic Design of Semiconductor Lasers.- 3.1 Double Heterostructures and Their Design.- 4. Epitaxy of III–V Compound Semiconductors.- 4.1 III-V Substrates for Semiconductor Lasers.- 4.2 Bulk Growth Techniques.- 4.3 Heteroepitaxial Techniques.- 5. Liquid Phase Epitaxy and Growth Technology.- 5.1 Outline of an LPE System.- 5.2 Reactors.- 5.3 Loading Sub-System.- 5.4 Pump and Exhaust Sub-System.- 5.5 Gas-Flow Sub-System.- 5.6 Heating Sub-System.- 5.7 Maintenance.- 5.8 Liquid-Phase Epitaxy.- 5.9 LPE Process.- 6. Vapor Phase and Beam Epitaxies.- 6.1 Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD).- 6.2 Molecular-Beam and Chemical-Beam Epitaxy.- 7. Characterization of Laser Materials.- 7.1 Evaluation of Laser Wafers.- 7.2 Measurement of Lattice Mismatch.- 7.3 Measurement of the Impurity Concentration.- 7.4 Photoluminescence.- 7.5 Measurement of the Refractive Index.- 7.6 Misfit Dislocation.- 8. Semiconductor-Laser Devices — Fabrication and Characteristics.- 8.1 Fabrication of Fundamental Laser Devices.- 8.2 Current Injection and Contacts.- 8.3 Evaluation of the Threshold-Current Density.- 8.4 Gain Bandwidth and Oscillation Spectra.- 8.5 Output and Efficiency of Semiconductor Lasers.- 8.6 Near-Field Pattern and Far-Field Pattern.- 8.7 Temperature Characteristics.- 8.8 Reliability.- 9. Mode-ControlTechniques in Semiconductor Lasers.- 9.1 Transverse-Mode Characteristics and the Single-Mode Condition.- 9.2 Longitudinal-Mode Control.- 9.3 Burying Epitaxy on Mesas and V-Grooves.- 9.4 Mass-Transport Technique.- 9.5 Selective Meltback Technique.- 9.6 Overgrowth on Gratings.- 9.7 Growth of Quantum Wells.- 9.8 Growth of Multilayer Bragg Mirrors.- 10. Surface-Emitting Lasers.- 10.1 The Concept of Surf ace-Emitting Lasers.- 10.2 Structure and Characteristics.- 10.3 Semiconductor Multi-Layer Structure.- 10.4 Two-Dimensional Arrays.- 10.5 Ultralow-Threshold Devices.- 10.6 Future Prospects.- References.