Plasma Etching

Fundamentals and Applications

AvM. Sugawara

Inbunden, Engelska, 1998

3 064 kr

Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

Beskrivning

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Produktinformation

Utforska kategorier

Mer om författaren

Innehållsförteckning

Hoppa över listan

Mer från samma serie

Del 6

Group III Nitride Semiconductor Compounds

Bernard Gil, France) Gil, Bernard (Directeur de Recherche, Centre National de la Recherche Scientifique, Groupe d'Etude des Semiconducteurs, Directeur de Recherche, Centre National de la Recherche Scientifique, Groupe d'Etude des Semiconducteurs, Universite de Montpellier II

Inbunden

2 950 kr

Del 3

Low-dimensional Semiconductors

M. J. Kelly, Guildford) Kelly, M. J. (Professor, Department of Physics and Electronics, Professor, Department of Physics and Electronics, University of Surrey

Inbunden

1 788 kr

Hoppa över listan

Du kanske också är intresserad av

Del 16

Microcavities

Alexey Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy

Häftad

817 kr

Del 22

Spin Current

Sadamichi Maekawa, Sergio O. Valenzuela, Eiji Saitoh, Takashi Kimura

Inbunden

1 670 kr

Del 21

Microcavities

Alexey V. Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy

Inbunden

1 217 kr