Plasma Etching

Fundamentals and Applications

AvM. Sugawara

Inbunden, Engelska, 1998

3 130 kr

Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

Beskrivning

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Produktinformation

Utforska kategorier

Mer om författaren

Innehållsförteckning

Hoppa över listan

Mer från samma serie

Hoppa över listan

Du kanske också är intresserad av

Alexey Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy - Microcavities, Häftad
Del 16

Microcavities

Alexey Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy

Häftad, 2011

875 kr

Sadamichi Maekawa, Sergio O. Valenzuela, Eiji Saitoh, Takashi Kimura - Spin Current, Inbunden
Del 22

Spin Current

Sadamichi Maekawa, Sergio O. Valenzuela, Eiji Saitoh, Takashi Kimura

Inbunden, 2017

1 706 kr

Alexey V. Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy - Microcavities, Inbunden
Del 21

Microcavities

Alexey V. Kavokin, Jeremy J. Baumberg, Guillaume Malpuech, Fabrice P. Laussy

Inbunden, 2017

1 243 kr