• Fri frakt över 249 kr
  • •
  • Snabba leveranser
  • •
  • Billiga böcker
Kundservice

Du är på sajten för privatpersoner.

Företag, bibliotek eller offentlig verksamhet?

Du handlar på classic.bokus.com, där alla dina funktioner finns intakta.
Till classic.bokus.com
Bokus logotyp. Gå till startsidan.
  • Erbjudanden
  • Nyheter
  • Student
  • Topplistor
  • Barn & ungdom
  • Bokus Play
  • E-böcker
  • Pocketböcker
  • Spel & pussel

10% rabatt på allt med kod NYSTART10 →

Sidfot

Mina sidor

    Hjälp

    • Kundservice
    • Vanliga frågor och svar
    • Frakt och leverans
    • Retur vid ångerrätt
    • Reklamera vara
    • Betalning
    • Köpvillkor
    • Allmänna villkor
    • Information om webbplatsens tillgänglighet

    Om Bokus

    • Om oss
    • Pressrum
    • För studenter
    • För företag
    • För bibliotek och offentlig verksamhet
    • För leverantörer
    • Hållbarhet

    Populärt

    • Aktuella erbjudanden
    • Presentkort
    • Studentlitteratur
    • Nya böcker
    • Topplistor
    • Signerade böcker
    • Engelska böcker

    Inspiration

    • Boktips
    • BookTok
    • Populära bokserier
    • Barnbokskaraktärer
    • Populära författare
    Logotyp för Bokus
    Följ oss på Facebook (extern länk)Följ oss på Instagram (extern länk)Följ oss på YouTube (extern länk)Följ oss på TikTok (extern länk)
    bokus @ CookiesAnpassa cookiesIntegritetspolicyKöpvillkor
    Till Citymail hemsida (extern länk)Till Budbee hemsida (extern länk)Till Postnord hemsida (extern länk)Till Schenker hemsida (extern länk)Till Early Bird hemsida (extern länk)Till Walleys hemsida (extern länk)
    1. Naturvetenskap och teknik
    2. Teknik och industri
    3. Elektronik och kommunikationer

    Plasma Etching

    Fundamentals and Applications

    AvM. Sugawara

    Inbunden, Engelska, 1998

    Del 7 i serien Series on Semiconductor Science and Technology

    3 787 kr

    Beställningsvara. Skickas inom 5-8 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

    Beskrivning

    The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

    Produktinformation

    • Utgivningsdatum:1998-05-28
    • Mått:163 x 242 x 23 mm
    • Vikt:743 g
    • Format:Inbunden
    • Språk:Engelska
    • Serie:Series on Semiconductor Science and Technology
    • Antal sidor:356
    • Förlag:OUP OXFORD
    • ISBN:9780198562870

    Utforska kategorier

    • Elektronik och kommunikationer inom Naturvetenskap och teknik
    • Energiteknik inom Naturvetenskap och teknik
    • Tillämpad fysik inom Naturvetenskap och teknik

    Mer om författaren

    Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

    Innehållsförteckning

    • 1. Introduction ; 2. RF discharges ; 3. Physical basis of plasma etching process ; 4. Diagnostics of plasma particles and potentials ; 5. Technology of reactive ion etching ; 6. Magnetic field coupled etchers ; 7. ECR plasma etchers ; 8. Future propects ; Index