Hf-Based High-k Dielectrics

Process Development, Performance Characterization, and Reliability

AvYoung-Hee Kim,Jack C. Lee

Häftad, Engelska, 2007

303 kr

Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

Beskrivning

Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).

Produktinformation

Utforska kategorier

Mer om författaren

Innehållsförteckning

Hoppa över listan

Mer från samma författare

Hoppa över listan

Mer från samma serie

Hoppa över listan

Du kanske också är intresserad av

  • Nyhet

Sallad!

Danyel Couet

Kartonnage

279 kr