• Fri frakt över 249 kr
  • •
  • Snabba leveranser
  • •
  • Billiga böcker
Kundservice

Du är på sajten för privatpersoner.

Företag, bibliotek eller offentlig verksamhet?

Du handlar på classic.bokus.com, där alla dina funktioner finns intakta.
Till classic.bokus.com
Bokus logotyp. Gå till startsidan.
  • Erbjudanden
  • Nyheter
  • Student
  • Topplistor
  • Barn & ungdom
  • Bokus Play
  • E-böcker
  • Pocketböcker
  • Spel & pussel

10% rabatt på allt med kod NYSTART10 →

Sidfot

Mina sidor

    Hjälp

    • Kundservice
    • Vanliga frågor och svar
    • Frakt och leverans
    • Retur vid ångerrätt
    • Reklamera vara
    • Betalning
    • Köpvillkor
    • Allmänna villkor
    • Information om webbplatsens tillgänglighet

    Om Bokus

    • Om oss
    • Pressrum
    • För studenter
    • För företag
    • För bibliotek och offentlig verksamhet
    • För leverantörer
    • Hållbarhet

    Populärt

    • Aktuella erbjudanden
    • Presentkort
    • Studentlitteratur
    • Nya böcker
    • Topplistor
    • Signerade böcker
    • Engelska böcker

    Inspiration

    • Boktips
    • BookTok
    • Populära bokserier
    • Barnbokskaraktärer
    • Populära författare
    Logotyp för Bokus
    Följ oss på Facebook (extern länk)Följ oss på Instagram (extern länk)Följ oss på YouTube (extern länk)Följ oss på TikTok (extern länk)
    bokus @ CookiesAnpassa cookiesIntegritetspolicyKöpvillkor
    Till Citymail hemsida (extern länk)Till Budbee hemsida (extern länk)Till Postnord hemsida (extern länk)Till Schenker hemsida (extern länk)Till Early Bird hemsida (extern länk)Till Walleys hemsida (extern länk)
    1. Naturvetenskap och teknik
    2. Teknik och industri
    3. Elektronik och kommunikationer

    Silicon Carbide

    Recent Major Advances

    AvWolfgang J. Choyke,Hiroyuki Matsunami

    Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG

    2003

    Del i serien Advanced Texts in Physics

    3 820 kr

    Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

    Beskrivning

    Since the 1997 publication of "Silicon Carbide - A Review of Fundamental Questions and Applications to Current Device Technology" edited by Choyke, et al., there has been impressive progress in both the fundamental and developmental aspects of the SiC field. So there is a growing need to update the scientific community on the important events in research and development since then. The editors have again gathered an outstanding team of the world's leading SiC researchers and design engineers to write on the most recent developments in SiC. The book is divided into five main categories: theory, crystal growth, characterization, processing and devices. Every attempt has been made to make the articles as up-to-date as possible and assure the highest standards of accuracy. As was the case for earlier SiC books, many of the articles will be relevant a decade from now so that this book will take its place next to the earlier work as a permanent and essential reference volume.

    Produktinformation

    • Märke:Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
    • Utgivningsdatum:2003-10-08
    • Höjd:155 x 235 x undefined mm
    • Vikt:1 548 g
    • Språk:Engelska
    • Serie:Advanced Texts in Physics
    • Antal sidor:899
    • Upplaga:2004
    • Förlag:Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
    • EAN:9783540404583

    Utforska kategorier

    • Elektronik och kommunikationer inom Naturvetenskap och teknik

    Innehållsförteckning

    • Zero- and Two-Dimensional Native Defects.- Defect Migration and Annealing Mechanisms.- Hydrogen in SiC.- Electronic Properties of Stacking Faults and Thin Cubic Inclusions in SiC Polytypes.- Principles and Limitations of Numerical Simulation of SiC Boule Growth by Sublimation.- Defect Formation and Reduction During Bulk SiC Growth.- High Nitrogen Doping During Bulk Growth of SiC.- Homoepitaxial and Heteroepitaxial Growth on Step-Free SiC Mesas.- Low-Defect 3C-SiC Grown on Undulant-Si (001) Substrates.- New Development in Hot Wall Vapor Phase Epitaxial Growth of Silicon Carbide.- Formation of SiC Thin Films by Ion Beam Synthesis.- Atomic Structure of SiC Surfaces.- The Continuum of Interface-Induced Gap States — The Unifying Concept of the Band Lineup at Semiconductor Interfaces — Application to Silicon Carbide.- Contributions to the Density of Interface States in SiC MOS Structures.- Properties of Nitrided Oxides on SiC.- Hall Effect Studies of Electron Mobility and Trapping at the SiC/SiO2 Interface.- Optical Properties of SiC: 1997–2002.- Cyclotron Resonance Studies of Effective Masses and Band Structure in SiC.- Electronic Structure of Deep Defects in SiC.- Phosphorus-Related Centers in SiC.- Hall Scattering Factor for Electrons and Holes in SiC.- Radiotracer Deep Level Transient Spectroscopy.- Vacancy Defects Detected by Positron Annihilatio.- Characterization of Defects in SiC Crystals by Raman Scattering.- Characterization of Low-Dimensional Structures in SiC Using Advanced Transmission Electron Microscopy.- Synchrotron White Beam X-Ray Topography and High Resolution X-Ray Diffraction Studies of Defects in SiC Substrates, Epilayers and Device Structures.- Ohmic Contacts for Power Devices on SiC.- Micromachining of SiC.- Surface Preparation Techniques for SiCWafers.- Epitaxial Growth and Device Processing of SiC on Non-Basal Planes.- SiC Power Bipolar Transistors and Thyristors.- High Voltage SiC Devices.- Power MOSFETs in 4H-SiC: Device Design and Technology.- Normally-Off Accumulation-Mode Epi-Channel Field Effect Transistor.- Development of SiC Devices for Microwave and RF Power Amplifiers.- Advances in SiC Field Effect Gas Sensors.