• Fri frakt över 249 kr
  • •
  • Snabba leveranser
  • •
  • Billiga böcker
Kundservice

Du är på sajten för privatpersoner.

Företag, bibliotek eller offentlig verksamhet?

Du handlar på classic.bokus.com, där alla dina funktioner finns intakta.
Till classic.bokus.com
Bokus logotyp. Gå till startsidan.
  • Erbjudanden
  • Nyheter
  • Student
  • Topplistor
  • Barn & ungdom
  • Bokus Play
  • E-böcker
  • Pocketböcker
  • Spel & pussel

10% rabatt på allt med kod NYSTART10 →

Sidfot

Mina sidor

    Hjälp

    • Kundservice
    • Vanliga frågor och svar
    • Frakt och leverans
    • Retur vid ångerrätt
    • Reklamera vara
    • Betalning
    • Köpvillkor
    • Allmänna villkor
    • Information om webbplatsens tillgänglighet

    Om Bokus

    • Om oss
    • Pressrum
    • För studenter
    • För företag
    • För bibliotek och offentlig verksamhet
    • För leverantörer
    • Hållbarhet

    Populärt

    • Aktuella erbjudanden
    • Presentkort
    • Studentlitteratur
    • Nya böcker
    • Topplistor
    • Signerade böcker
    • Engelska böcker

    Inspiration

    • Boktips
    • BookTok
    • Populära bokserier
    • Barnbokskaraktärer
    • Populära författare
    Logotyp för Bokus
    Följ oss på Facebook (extern länk)Följ oss på Instagram (extern länk)Följ oss på YouTube (extern länk)Följ oss på TikTok (extern länk)
    bokus @ CookiesAnpassa cookiesIntegritetspolicyKöpvillkor
    Till Citymail hemsida (extern länk)Till Budbee hemsida (extern länk)Till Postnord hemsida (extern länk)Till Schenker hemsida (extern länk)Till Early Bird hemsida (extern länk)Till Walleys hemsida (extern länk)
    1. Naturvetenskap och teknik
    2. Teknik och industri
    3. Elektronik och kommunikationer

    Advances in CMP Polishing Technologies

    AvToshiro Doi,Ioan D. Marinescu

    Inbunden, Engelska, 2011

    1 685 kr

    Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

    Beskrivning

    CMP and polishing are the most precise processes used to finish the surfaces of mechanical and electronic or semiconductor components. Advances in CMP/Polishing Technologies for Manufacture of Electronic Devices presents the latest developments and technological innovations in the field - making cutting-edge R&D accessible to the wider engineering community.

    Most of the applications of these processes are kept as confidential as possible (proprietary information), and specific details are not seen in professional or technical journals and magazines. This book makes these processes and applications accessible to a wider industrial and academic audience.

    Building on the fundamentals of tribology - the science of friction, wear and lubrication - the authors explore the practical applications of CMP and polishing across various market sectors. Due to the high pace of development of the electronics and semiconductors industry, many of the presented processes and applications come from these industries.



    • Demystifies scientific developments and technological innovations, opening them up for new applications and process improvements in the semiconductor industry and other areas of precision engineering
    • Explores stock removal mechanisms in CMP and polishing, and the challenges involved in predicting the outcomes of abrasive processes in high-precision environments
    • The authors bring together the latest innovations and research from the USA and Japan

    Produktinformation

    • Utgivningsdatum:2011-12-20
    • Mått:152 x 229 x 23 mm
    • Vikt:550 g
    • Format:Inbunden
    • Språk:Engelska
    • Antal sidor:328
    • Förlag:Elsevier Science
    • ISBN:9781437778595

    Utforska kategorier

    • Elektronik och kommunikationer inom Naturvetenskap och teknik

    Mer om författaren

    Ioan D. Marinescu is Professor and Director of the Precision Micromachining Center at The University of Toledo, Ohio, USA, and CEO of Advanced Manufacturing Solutions, LLC. His research interests include manufacturing processes, grinding, tribology, advanced materials, and machining of brittle materials.

    Innehållsförteckning

    • Chapter 1: IntroductionChapter 2: Device fabrication with a silicon crystal substrateChapter 3: Ultra-precision technology – taking silicon single crystal as an exampleChapter 4: Applications of ultra-precision CMP in device processesChapter 5: The future of processing technologyChapter 6: Progress of the semiconductor and silicon industriesChapter 7: Summary