• Fri frakt över 249 kr
  • •
  • Snabba leveranser
  • •
  • Billiga böcker
Kundservice

Du är på sajten för privatpersoner.

Företag, bibliotek eller offentlig verksamhet?

Du handlar på classic.bokus.com, där alla dina funktioner finns intakta.
Till classic.bokus.com
Bokus logotyp. Gå till startsidan.
  • Erbjudanden
  • Nyheter
  • Student
  • Topplistor
  • Barn & ungdom
  • Bokus Play
  • E-böcker
  • Pocketböcker
  • Spel & pussel

10% rabatt på allt med kod: NYSTART10 →

Sidfot

Mina sidor

    Hjälp

    • Kundservice
    • Vanliga frågor och svar
    • Frakt och leverans
    • Retur vid ångerrätt
    • Reklamera vara
    • Betalning
    • Köpvillkor
    • Allmänna villkor
    • Information om webbplatsens tillgänglighet

    Om Bokus

    • Om oss
    • Pressrum
    • För studenter
    • För företag
    • För bibliotek och offentlig verksamhet
    • För leverantörer
    • Hållbarhet

    Populärt

    • Aktuella erbjudanden
    • Presentkort
    • Studentlitteratur
    • Nya böcker
    • Topplistor
    • Signerade böcker
    • Engelska böcker

    Inspiration

    • Boktips
    • BookTok
    • Populära bokserier
    • Barnbokskaraktärer
    • Populära författare
    Logotyp för Bokus
    Följ oss på Facebook (extern länk)Följ oss på Instagram (extern länk)Följ oss på YouTube (extern länk)Följ oss på TikTok (extern länk)
    bokus @ CookiesAnpassa cookiesIntegritetspolicyKöpvillkor
    Till Citymail hemsida (extern länk)Till Budbee hemsida (extern länk)Till Postnord hemsida (extern länk)Till Schenker hemsida (extern länk)Till Early Bird hemsida (extern länk)Till Walleys hemsida (extern länk)
    1. Naturvetenskap och teknik
    2. Teknik och industri
    3. Maskinteknik och material

    Amorphous and Crystalline Silicon Carbide and Related Materials

    Proceedings of the First International Conference, Washington DC, December 10 and 11, 1987

    AvGary L. Harris,Cary Y.-W. Yang

    Häftad, Engelska, 2012

    Del i serien Springer Proceedings in Physics

    1 086 kr

    Beställningsvara. Skickas inom 10-15 vardagar. Fri frakt över 249 kr.

    Beskrivning

    Although silicon carbide has been used for more than half a century, its potential as a high-temperature, corrosion-resistant semiconductor has only recently begun to be exploited. Both crystalline and amorphous forms of SiC offer several advantages over Si, GaAs, and InP for high-frequency, high-power, and high-speed circuits. This volume contains reports on high-temperature SiC MOSFETs and MESFETs, secondary harmonic generation in SiC, a-SiC emitter heterojunction bipolar transistors, and bulk crystal growth of 6H-SiC. For newcomers to the field it provides an up-to-date review of technological developments in SiC and related materials, while specialists will find here recent references and new insights into materials for high-temperature, high-power, and high-speed circuit applications.

    Produktinformation

    • Utgivningsdatum:2012-01-19
    • Mått:170 x 244 x 12 mm
    • Vikt:382 g
    • Format:Häftad
    • Språk:Engelska
    • Serie:Springer Proceedings in Physics
    • Antal sidor:199
    • Upplaga:1989
    • Förlag:Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. KG
    • ISBN:9783642934087

    Utforska kategorier

    • Maskinteknik och material inom Naturvetenskap och teknik

    Innehållsförteckning

    • I Growth of Crystalline Silicon Carbide.- Recent Developments in SiC (USA).- 6H-SiC Studies and Developments at the Corporate Research Laboratory of Siemens AG and the Institute for Applied Physics of the University in Erlangen (FRG).- VPE Growth of SiC on Step-Controlled Substrates.- Growth of ?-SiC Heteroepitaxial Films on Vicinal (001) Si Substrates.- Epitaxial Growth of 3C-SiC on a Si Substrate Using Methyltrichlorosilane.- A Mechanism and Kinetics for Silicon Carbide Growth.- Mechanisms of Epitaxial Growth of ?-SiC on Silicon Substrate by Chemical Vapor Deposition and Nucleation of Defects.- II Growth of Amorphous Silieon Carbide.- Present and Future Applications of Amorphous Silicon Carbide.- Fabrication of a-Si:H/a-SiC:H Multilayers by a Glow Discharge Method and Carrier Transport Properties.- Highly Photosensitive a-SiC:H Films Prepared at High Deposition Rate by Glow Discharge in SiH4-C2H2 Mixture Gas.- A Novel L-Coupled RF PECVD System for Large-Area Deposition of a-SiC:H for Device Applications.- III Characterization of Silicon Carbide.- Donor Identification in Thin Film Cubic SiC.- SiC Production Chemistry from Olefinic Hydrocarbons on Si(100).- Surface Structures of ?-SiC, 6H-SiC and Pseudomorphic Si Adlayers.- Study of the Origin of Residual Carriers in CVD-Grown 3C-SiC by Photoluminescence and Electron Spin Resonance.- Phase Matched Second Harmonic Conversion in ?-SiC.- Gamma-Ray Irradiation Effects on 3C-SiC Devices.- The Measurement of Stress in Silicon Carbide Using the Photoelastic Effect.- Effect of Surface Modifications of Cubic SiC on Metallization Interactions.- Amorphous Silicon Carbide Thin Films Produced in the Glow Discharge Deposition System.- Preparation and Properties of Polycrystalline Silicon Carbide Films Produced by Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition, and Their Applications.- IV Silicon Carbide Processing and Device Applications.- Study on Current Gain Degradation in Amorphous SiC Emitter HBT.- Investigations of Stability of a-SiC Under Heat Treatment During Device Fabrication.- Heterojunction Band Discontinuities in Crystalline Silicon/Amorphous Compound Heterojunctions.- Amorphous Silicon Solar Cells Using a-SiC Materials.- Au-Ni Contacts on ?-SiC Films.- Epitaxial Growth, High Temperature Ion Implantation and MOSFET Fabrication in Monocrystalline ?-SiC Thin Films.- Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of Cubic Silicon Carbide on Silicon Substrate.- Reactive Ion Etching for SiC Device Fabrication.- Index of Contributors.